塑料成型（xíng）工藝中描述的拋光與（yǔ）其他行業所需的表（biǎo）麵拋光有很大不同，嚴格來說（shuō），模具的拋（pāo）光應稱為鏡麵拋光。它（tā）不（bú）僅對拋光

本身有很高的要求，而且對表麵平整（zhěng）度、的平滑度和幾何精度也有很高的標準。表麵拋光通常僅需要光澤表麵。鏡像處理標準

分為四個級別。

　　對於電解拋光、流體拋（pāo）光的（de）過（guò）程中，它是難以準確地控製各部分的幾何精度，由於化學拋（pāo）光所述超聲（shēng）波拋（pāo）光、磁性拋光的（de）、表麵質量不是必需的，精密（mì）模具主要（yào）是基於機械拋（pāo）光。 。

　　1、半精細（xì）拋光主要使用砂（shā）紙實驗室（shì）和煤油協會。

　　2、精密拋光主要製作金剛石膏。通（tōng）常（cháng）的磨削，以除去為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是在殼體＃1200和砂紙（8000）的＃1500離開頭發的痕（hén）跡，拋光布為9um的金剛石研磨（mó）膏你可以（yǐ）使用方向盤。然後使（shǐ）用1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量級的（de）氈和金剛石漿料進行（háng）拋光。要求精度為（wéi）1微米或更（gèng）大（包括（kuò）1微米）的拋光工藝

必須是絕對清潔的空間，用於拋光模具。灰（huī）塵、煙霧，頭皮屑（xiè）和唾液可能具有高精度拋光表麵，可在工作數小時後獲得。

　　3、為了（le）獲得機械拋光的基本程序，高質量的拋光效果，最重（chóng）要的是（shì）要有高質量的拋光工具和砂紙（zhǐ）和（hé）研磨膏等配件。最重要的是一個複雜的工作環境，需要一個潔淨室。拋光（guāng）程序的（de）選擇取決（jué）於（yú）先前加（jiā）工的表麵狀（zhuàng）況，例如、 EDM加工，磨削。

　　4、機械拋光的一般過程如下（xià）。粗拋、銑削、電火（huǒ）花、的處理之後磨削表麵可以被選擇在35000-40000rpm的旋轉表麵研磨機或超聲波粉碎機旋轉。常見的（de）方法是使用直徑為3 mm、 WA＃400的輪子去除白色火花層。然後（hòu）手動油石磨，金剛石

砂岩（yán）和煤油條作為（wéi）潤滑劑或冷卻劑（jì）。一般使用順序（xù）是＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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