塑料成型（xíng）工藝中描述的拋光與其他行（háng）業所需的表麵拋光有很大不同，嚴格來說，模具的拋光應稱為鏡麵拋光。它（tā）不僅對拋光

本身有很高的（de）要求，而且對表麵平整度、的平滑度和幾何精度也有很高的標準（zhǔn）。表麵拋光通常僅需要光（guāng）澤表麵。鏡像處理標準

分為四個級別。

　　對於電解拋光、流體拋光的過程（chéng）中，它是難以準確地控製各部分的幾何精度，由於化學（xué）拋光所述超聲波拋（pāo）光、磁（cí）性拋光的、表麵質量（liàng）不是必需的，精密模具主要是基於機械拋光。 。

　　1、半精細拋光主要使用砂紙實驗室和煤油協會。

　　2、精（jīng）密拋光主要製作金剛石膏。通常的磨削，以除（chú）去為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是在殼體＃1200和砂紙（8000）的＃1500離（lí）開頭發的痕（hén）跡，拋光布為9um的金剛石研磨膏（gāo）你可以使用方向盤。然（rán）後（hòu）使用1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量（liàng）級的氈和金剛石漿料進行拋光。要求精度為1微米或（huò）更大（包括1微米）的拋光（guāng）工（gōng）藝

必須是（shì）絕對清潔的空間，用於拋光模具。灰（huī）塵、煙霧，頭皮屑和唾液可能具有高精度拋光表麵，可在工作數小時後獲得。

　　3、為了獲得機械拋光的（de）基本程序，高質量的拋光效果，最（zuì）重要的是要有高質量的（de）拋光工具和砂（shā）紙和研磨膏等（děng）配件（jiàn）。最重要的是一個複雜的（de）工作環境（jìng），需要一個潔淨室。拋光程序的選擇取決於先前加工的表麵狀況，例如、 EDM加工，磨削。

　　4、機械拋（pāo）光（guāng）的一（yī）般（bān）過程（chéng）如下。粗拋、銑削、電火（huǒ）花、的處理之後磨削表麵（miàn）可以被選擇在35000-40000rpm的旋轉表麵研磨機或超聲波（bō）粉碎機旋轉（zhuǎn）。常見（jiàn）的方法是使用直徑為3 mm、 WA＃400的輪子去除白色火花層。然後手動油石磨，金剛石

砂岩和煤油條作為（wéi）潤滑劑或冷卻劑。一般使（shǐ）用順序是＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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